新闻动态
NEWS
冲刺二季度、拉满“奋斗值”(三）
2025-06-19
6月19日，一台卧式碳化硅化学气相沉积装备顺利发往客户现场，标志着涂层装备单项冠军培育计划实现新的突破，也是公司积极拓展新市场领域的重要一步。
6月19日，一台卧式碳化硅化学气相沉积装备顺利发往客户现场，标志着涂层装备单项冠军培育计划实现新的突破，也是公司积极拓展新市场领域的重要一步。
该装备是公司采用全新设计理念开发的第三代卧式碳化硅化学气相沉积装备，结构设计与工艺技术均由公司自主研发。采用高精度温控系统，可将石墨基体温差精准调控在1℃以内，确保工艺过程稳定；利用CFD数值模拟技术对装备结构和工艺参数进行优化调整，有效提升生产质量与效率。经过多次工艺优化调试，顺利实现涂层制品纯度≥99.9999%，碳化硅涂层制品厚度100μm±10%，主要晶型、晶向、硬度等关键技术指标达到国内领先水平。
展望未来，公司将以此为契机，持续深化技术创新，稳步提升产品性能和服务质量，进一步提升科研实力与市场影响力，为我国半导体产业发展提供更强大的技术支持和装备保障。
作者/周世豪校对/石玉洁责编/聂春燕
相关资讯
FOLLOW US
扫码关注官方微信
或搜索“山西中电科电子装备有限公司”
更多精彩等着你！
