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公司携自主研发的化学气相沉积装备亮相SEMI展
2025-04-10
3月26日，SEMICON China 2025在上海新国际博览中心顺利开幕。作为化学气相沉积装备的“领跑者”，山西中电科公司携自主研发的化学气相沉积装备亮相SEMI展，并作题“半导体用SiC CVD装备技术及应用”的主题演讲，全方位介绍公司在化学气相沉积装备领域的雄厚实力。
3月26日，SEMICON China 2025在上海新国际博览中心顺利开幕。作为化学气相沉积装备的“领跑者”，山西中电科公司携自主研发的化学气相沉积装备亮相SEMI展，并作题“半导体用SiC CVD装备技术及应用”的主题演讲，全方位介绍公司在化学气相沉积装备领域的雄厚实力。
SiC CVD装备是半导体核心部件涂层制备的关键设备，通过鼓泡或者蒸发方式将先驱体带入反应腔，并进行精准控制压力/温度/气体比例，在石墨或者碳化硅表面上进行CVD。中国电科杰出青年、电科装备技术专家、公司高级工程师田冬龙在演讲中系统地介绍了SiC CVD的发展前景，通过对核心结构痛点的精准定位，以先进的技术手段解决痛点问题，详细介绍了SiC CVD装备的核心结构的设计要点，对公司涂层产品的各项工艺指标进行全面解读。近年来，公司深耕SiC CVD装备研发领域，对包括沉积腔室、加热保温系统、进气系统、真空系统、尾气处理系统以及智能控制系统在内的核心结构进行创新型的优化改造，实现装备、工艺和服务持续迭代更新，装备性能、工艺适配度和稳定性显著提升，完全满足量产需求。
展望未来，山西中电科公司将始终坚持“装备+工艺+服务”发展理念、“先进工艺促进装备发展，装备迭代提升工艺技术”发展模式，深耕半导体装备领域，以技术创新为驱动，为我国半导体产业链贡献更多的力量。
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